MKS远程等离子体源

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	MKS远程等离子体源	MKS远程等离子体源——CVD工艺腔室清洗的最佳选择： 1.提高生产力人工清洗时间占用大量的设备时间，又是还多于成膜时间，还可能造成腔室部件的意外损坏。使用非常活性的化学品，或腔室内等离子体的存在，喷砂等清洗都会有损于腔室内部的部件 2.节约成本优选远程等离子体清洗理由减少工艺腔内部的损坏更高的清洗速率更高的清洗均匀性 CVD成膜和工艺腔室清洗的工艺优化可分别处理

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